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产品及应用

SiC晶圆激光快速退火系统

产品介绍

采用激光对重掺杂 SiC 表面沉积一种或几种过渡金属进行合金化,精确控制激光能量和分布,形成良好的欧姆接触。采用激光方式可忽略衬底正面结构的影响,更好的与减薄工艺兼容,简化工艺流程,提高器件性能。

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产品特点
  • ·  支持薄片退火                                           ·  优秀的退火表面形貌和电学特征

  • ·  10-5Ωcm²量级的比接触电阻率             

  •  ·  高效率、低成本控制

  • ·  I F 值提高 30% 以上                                 ·  完整的全程监控反馈功能


应用产品类型

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技术指标

 

 

项目LA2540S LA2550S
晶圆尺寸4/6 Inch 兼容
典型扫描时间180 sec/p @4 inch90 sec/p @4 inch
激光能量密度≥ 5J/cm²
激光输出稳定性≤ 2%,RMS,4hrs
比电阻接触率

≤ 10 -5Ωcm²

自动传片系统双 LoadPort、多关节机器手、预准直器

 

 

应用案例

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Chengdu Laipu Technology co.,LTD

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